科学家首次演示光线如何挤过细微小孔的过程

　创造了光穿过小孔的理论模型。根据鲍卡姆普的预测，电场强度在小孔的边缘处最大，且电场强度会随着太赫光频率的下降而减小。

这次实验首次证实了鲍卡姆普模型的真实性。在此实验中，科学家发现即使小孔比光波长度小50倍，仍有足够的光穿过小孔，且能达到小孔周围可测量的电场强度。这一技术还使研究人员们能够记录光线穿过小孔的整个过程，从而可以让科学家放慢一万亿倍的速度来观察此详细过程，了解光线是如何穿越小孔的，以及后来的光波又是如何以环形波形式向外扩散的。

普兰肯及其同事的这些新发现不仅是基础科学的重大成果，还将有助于开发太赫显微镜的使用。从长远来看，普兰肯希望能使用此细微小孔来改进太赫光源。因为这些光源孔越小，利用太赫显微镜所获得的图像就越清晰，就越容易测量微小数量的物质。

太赫辐射是一种电磁辐射，目前正日益频繁地用来生成图像。毕竟许多材料，如纸、布和塑料都会阻止可见光的穿过，但在太赫辐射面前却是透明的。至今为止，太赫显微镜还没有产生如此清晰的图像。随着更强大和更小的光源和更加灵敏的探测器的开发，将可以大大提高太赫显微镜生成图像的能力。比如，用太赫辐射来观察生物细胞。（尼特

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